公司产品：
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等离子增强化学气相沉积水平镀膜系统采用等离子的方法使反应气体活性增加，提升反应速度，从而实现化学反应和分子沉积成膜。可以制备碳化硅/氮化硅/氮碳化硅/二氧化硅/非晶硅/氧化铝等多种薄膜，可在半导体和光伏应用。
低压水平扩散氧化系统
在低压氛围下，实现化学反应和分子沉积成膜。成膜后可以通过高温加热扩散，从而实现硅片表面掺杂的功能。可以制备氧化硅/硼硅玻璃/磷硅玻璃等薄膜，也可以实现硅片表面磷掺杂，硼掺杂等。
- 公司规模：100 - 499人
- 公司性质：民营企业
- 所属行业：IT行业-计算机、互联网、通讯、电子、仪器仪表等
- 所在地区：广东-深圳市-坪山区
- 联系人：樊小姐
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- 邮政编码：
工作地址
- 地址：深圳市坪山区坑梓吉康路1号 (邮编：518000)
